簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果:共1筆資料 檢索策略: "機械工程系".dept (精準) and ckeyword.raw="化學機械拋光 (CMP)"


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    拋光墊表面微突起接觸面積對銅薄膜晶圓化學機械拋光之影響研究
    • /110/ 碩士
    • 研究生: 林峻宇 指導教授: 陳炤彰
    • 本研究目的為下壓力對於軟拋墊表面微突起接觸面積的影響與材料移除率預測模型應用於銅薄膜化學機械拋光製程。實際方法使用X-ray電腦斷層掃描儀進行軟拋墊的微觀形貌掃描,再透過三維分析軟體組建軟拋墊的微觀…
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    • 全文公開日期 2024/09/19 (校內網路)
    • 全文公開日期 2027/09/19 (校外網路)
    • 全文公開日期 2027/09/19 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
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